Дочерняя компания Китайской корпорации электронных технологий (CETC) успешно разработала полную серию отечественных ионных имплантеров, используемых в производстве чипов по 28-нанометровому технопроцессу. Об этом сообщает информационное агентство «Синьхуа».
Компания CETC добилась прорывов в освоении ключевых технологий и разработала семейство ионных имплантеров, начиная от имплантеров среднего тока, высокого тока и высокой энергии до имплантеров для полупроводников третьего поколения, которые могут охватывать 28-нанометровый производственный процесс.
Ионный имплантер представляет собой один из ключевых видов оборудования для выпуска чипов. В этом процессе ионная имплантация, то есть введение посторонних атомов в полупроводниковые монокристаллы при ионной бомбардировке его поверхности, используется для создания требуемой примесной электропроводности полупроводника.
Новое достижение позволит гарантировать промышленную безопасность Китая в сфере отечественного производства микросхем.
Ранее сообщалось, что китайские специалисты разработали первый в стране чип DPU, обладающий независимыми правами на интеллектуальную собственность.
Свежие комментарии